• Tiada Hasil Ditemukan

Illustrate your answer with a typical formulation of the compound

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2022

Share "Illustrate your answer with a typical formulation of the compound"

Copied!
5
0
0

Tekspenuh

(1)

Second Semester Examination Academic Session 2005/2006

April/Mei 2006

IWK 305E - Advanced Coatings Technology [Teknologi Penglitup Termajul

Duration: 2 hours [Masa: 2jam]

Please check that this examination paper consists of FIVE pages of printed material before you begin the examination.

Answer FOUR questions. All questions can be answered either in Bahasa Malaysia OR English.

[Sila pastikan bahawa kertas peperiksaan ini mengandungz LIMA mukasurat yang bercetak sebelum anda memulakan peperikaan im.]

[Jawab EMPAT soalan. Semua soalan boleh dijawab dalam Bahasa Malaysia ATAU Bahasa Inggeris.j

(2)

(a)

(a) Outline the preparation ofa heat-resistant adhesive based on natural rubber.

Illustrate your answer with a typical formulation of the compound. What is the main application of such adhesive?

(b) Describe briefly the principle of gravure method in adhesive coating. What are the factors that affect its coating efficiency?

2. Write short notes on the following:

(a) Main requirements for release coatings (b) Knife-over-roll coater

(c) Effect of Tg on the tack of adhesives

(50 marks)

(50 marks)

(100 marks) 3. (a) Write a brief account ofthe silicone-based release agent.

(50 marks) (b) Describe the construction of a medium pressure mercury lamp used in

radiation curing.

(50 marks) 4. (a) Discuss briefly the advantages of the UV/EB radiation curing technology .

(40 marks) (b) Illustrate with a diagram the energy transitions undergone by a photoinitiator on exposure to UV radiation. Indicate the productive and non-productive processes which determine the curing efficiency.

(60 marks)

(3)

3

5 . (a) (i) Give an example of a a-hydroxy alkylphenone photoinitiator.

(iii) Write down the subsequent reactions among the products.

(ii) Discuss briefly how the photolysis of the same occurs on exposure to UV radiation

(50 marks) (b) Calculate the energy in kilo joule and electron volt per Einstein associated

with a radiation of wave length 400 nm.

(50 marks)

(4)

1. (a) Terangkan pendedaaan suatu perekat rintangan-haba yang berasaskan getah asli.

Tunjukkan jawapan anda dengan suatu formulasi tipikal untuk sebatian tersebut. Apakahpenggunaan utama untukperekat ini?

(50 markah) Perihalkan secara ringkas, prinsip kaedah gravur dalam penglitupan perekat.

Apakah faktorfaktor yang mempengaruhi kecekapan penglitupannya?

2. Tuliskan nota-nota ringkas tentangperkara berikut:

(a) Keperluan-keperluan utama untukpenglitupan pelepasan (b) Alat penglitup pisau-ataspenggulung

(c) Kesan Tg terhadap tekperekat

(50 markah)

(100 markah) 3. (a) Tuliskan suatu keterangan ringkas mengenai agen pelepasan yang berasaskan

silikon.

(50 markah) Perihalkan pembinaan suatu lampu merkuri bertekanan sederhana yang digunakan dalampematangan sinaran.

(50 markah) 4. (a) Bincangkan secara ringkas, kebaikan-kebaikan teknologi pematangan sinaran

UVIEB.

(40 markah) Tunjukkan dengan suatu gambarajah, peralihan tenaga yang dialami oleh suatu fotopemula atas pendedahan kepada sinaran UV. Tandakan proses produktifdan bukanproduktif yang menentukan kecekapan pematangan.

(60 markah)

(5)

5. (a) (i) Berikan suatu contoh untuk suatu fotopemula a-hidroksi alkifenon.

5

(ii) Bincangkan secara ringkas, bagaimana fotolisis untuk bahan tersebut berlaku atas pendedahan sinaran UV.

(iii) Tuliskan persamaanpersamaan untuk produkproduk terhasil.

(50 markah) Hitungkan tenaga dalam kilo joule dan elektron volt per Einstein yang berkaitan denganjarak gelombang sinaran sepanjang 400 nm.

-000000000-

(50 markah)

Rujukan

DOKUMEN BERKAITAN

[(b) Untuk suatu pengesan NaI(TI) kecil yang didedahkan kepada suatu punca radioaktif yang memancarkan sinar-y bertenaga 500 keV dan 2 MeV, lakarkan plot spektrum tenaga

Sila pastikan bahawa kertas peperiksaan ini mengandungi LIMA muka surat yang bercetak sebelum anda memulakanpeperiksaan ini. Jawab kesemua

Mutan virus HSV-1 yang tiada gen ICP47 (AICP47) didapati boleh menjalankan proses replikasi virus dengan penghasilan progeni virus baru.. Keupayaan mutan virus (AICP47)

(a) Dengan bantuan gambarajah skematik jelaskan maksud sel Wigner-Seitz bagi suatu kekisi hablur.. (20/100) (b) Tunjukkan bahawa nisbah (c/a) = 1 .633 bagi suatu struktur

(40/100) (c) Hitung tenaga keadaan clasar bagi suatu objek makroskop 9.1 mg dengan menganggapkan bahawa objek itu terkongkong di dalam suatu perigi potensial satu dimensi yang

Lukis suatu gambar rajah tenagabagi kehilangan suatu proton daipada fenol atas plot yang sama dengan gambar rajah tenagabagi kehilangan suatu proton

(20 markah) (b) " Rekahan tegasan persekitaran memainkan peranan yang penting dalam menentukan mod kegagalan bahan polimee' Jelaskan kenyataan ini dengan memberikan contoh

(4 markah) (b) Suatu aliran air sisa yang dihasilkan oleh suatu kawasan perumahan dengan nilai kandungan organik setara dengan 12.5 kg/m 3 , ingin diolah menggunakan loji